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飛納臺式掃描電鏡能譜一體機 Phenom ProX

• 產(chǎn)品特點：

  飛納臺式掃描電鏡能譜一體機 Phenom ProX—— 智能、GX、能譜電鏡一體化
  放大倍數(shù)：350,000×
  分辨率：優(yōu)于 6nm@10kV
  電子槍：3,000 小時 CeB6 燈絲
  抽真空時間：小于 15 秒
  能譜儀EDS元素分析功能
  拓展功能：3D粗糙度重建、纖維統(tǒng)計測量，高倍拼圖等

• 產(chǎn)品詳情：

• Phenom ProX G7飛納臺式掃描電鏡能譜一體機 

  產(chǎn)品性能        

  飛納臺式掃描電鏡能譜一體機 Phenom ProX 同時具備樣品表面微觀形貌觀測（SEM）和表面元素成分點、線、面分析（EDS）。作為業(yè)內(nèi)成熟的一體化 SEM-EDS 系統(tǒng)，飛納電鏡將電鏡和能譜在生產(chǎn)環(huán)節(jié)深度集成，設(shè)備出廠即完成匹配調(diào)校，后期通過同一個軟件平臺即可完成成像與能譜分析，降低學(xué)習(xí)成本，提高上機效率，技術(shù)支持流程也更加高效。
  適用于材料科研、鋰電池正極負(fù)極材料分析、半導(dǎo)體失效分析、粉末冶金、科研院校共享平臺以及企業(yè)質(zhì)量控制實驗室。

  Phenom ProX 曾榮獲 2012 年全//球新產(chǎn)品獎，是臺式掃描電鏡能譜一體化領(lǐng)域的重要里程碑。其亮度10 倍于鎢燈絲的 CeB6 燈絲不僅顯著提升成像分辨率，也使表面元素分析更加準(zhǔn)確穩(wěn)定。在背散射（BSE）成像中，不同灰度對應(yīng)不同原子序，搭配 SDD 探頭，可實現(xiàn) 5–95 號元素的點、線、面分布分析，滿足科研及工業(yè)用戶的精準(zhǔn)需求。

  Phenom ProX 延續(xù)飛納系列的智能化設(shè)計，具備全自動操作、15 秒快速抽真空、不噴金觀察絕緣體、平均 5 年更換燈絲等優(yōu)勢。設(shè)備無需防震臺，可直接放置在普通實驗室、辦公室或廠房環(huán)境中。EDS 模塊采用一體化結(jié)構(gòu)，無需外接部件、無需液氮冷卻，真正實現(xiàn)“即開即用"的臺式場景友好型 SEM-EDS。

  產(chǎn)品參數(shù)        

  光學(xué)顯微鏡： 20–135×
  電子顯微鏡：350,000×
  探測器： 高靈敏度四分割背散射電子探測器，能譜探測器
  燈絲材料： 3,000 小時 CeB6 燈絲
  分辨率： 優(yōu)于 6 nm @10 kV
  放置環(huán)境： 專業(yè)防震設(shè)計，可在普通實驗室、辦公室、廠房環(huán)境使用
  加速電壓：        

• 基本模式：2 kV / 5 kV / 10 kV / 15 kV / 20 kV

• 高級模式：4.8–20.5 kV 連續(xù)可調(diào)，用于成像與元素分析

  ‍‍‍‍抽真空時間：‍‍‍‍ <15 秒
  元素分析范圍： B（5）– Am（95）
  能譜探測器： SDD 硅漂移探測器
  冷卻方式： Peltier 無液氮電制冷
  選配： 支持全系列樣品杯，支持所有軟件拓展模塊（自動顆粒分析、自動金屬夾雜物分析、纖維分析、形貌統(tǒng)計等）

  適合科研院校共享平臺、材料研究所、地質(zhì)與礦產(chǎn)分析實驗室、企業(yè)質(zhì)檢中心和生產(chǎn)線質(zhì)量管理等多種應(yīng)用場景。‍‍‍‍‍‍‍‍            

  
             

  
             

  復(fù)納科學(xué)儀器（上海）有限公司負(fù)責(zé)荷蘭飛納臺式掃描電鏡在國內(nèi)市場的推廣、銷售及全流程技術(shù)支持。飛納建立了從售前測試、用戶培訓(xùn)到售后保障的完整體系，在 上海、北京、廣州均設(shè)有測試中心和服務(wù)中心，滿足華東、華北、華南不同地區(qū)用戶需求。

  飛納 ZG 提出了飛納學(xué)校（Phenom University）的培訓(xùn)體系，從 SEM 基礎(chǔ)知識到高級 Level 5 應(yīng)用工程師課程，幫助科研團隊、企業(yè)工程師快速掌握自動化掃描電鏡與能譜分析技能。目前飛納在國內(nèi)擁有接近 2000 名用戶，覆蓋材料科學(xué)、電子封裝、鋰電池、金屬冶金、地質(zhì)礦物、半導(dǎo)體檢測等眾多領(lǐng)域。

  作為國際智能化臺式掃描電鏡品牌，飛納電鏡正逐步成為 國內(nèi)市場科研機構(gòu)與企業(yè)實驗室的主流選擇之一，適用于對成像速度、空間環(huán)境要求、自動化程度和設(shè)備穩(wěn)定性有更高需求的用戶。

  
             

  
             

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